| 1. Identificação | |
| Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
| Site | mtc-m16d.sid.inpe.br |
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
| Identificador | 8JMKD3MGP7W/36HPN85 |
| Repositório | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/12.10.13.17 (acesso restrito) |
| Última Atualização | 2009:12.10.13.17.54 (UTC) administrator |
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/12.10.13.17.56 |
| Última Atualização dos Metadados | 2018:06.05.04.36.01 (UTC) administrator |
| Chave Secundária | INPE--PRE/ |
| DOI | 10.1016/j.diamond.2009.05.002 |
| ISSN | 0925-9635 |
| Chave de Citação | BarbosaAlSiFeTrCo:2009:InSuTe |
| Título | Influence of substrate temperature on formation of ultrananocrystalline diamond films deposited by HFCVD argon-rich gas mixture  |
| Ano | 2009 |
| Mês | Oct. |
| Data de Acesso | 18 maio 2024 |
| Tipo Secundário | PRE PI |
| Número de Arquivos | 1 |
| Tamanho | 537 KiB |
| 2. Contextualização | |
| Autor | 1 Barbosa, Divani Carvalho 2 Almeida, F. A. 3 Silva, R. F. 4 Ferreira, Neidenêi Gomes 5 Trava-Airoldi, Vladimir Jesus 6 Corat, Evaldo José |
| Identificador de Curriculo | 1 2 3 4 8JMKD3MGP5W/3C9JHU3 5 6 8JMKD3MGP5W/3C9JH33 |
| Grupo | 1 LAS-CTE-INPE-MCT-BR 2 3 4 LAS-CTE-INPE-MCT-BR 5 LAS-CTE-INPE-MCT-BR 6 LAS-CTE-INPE-MCT-BR |
| Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 2 Ceramics Glass Engineering Department, University of Aveiro 3 Ceramics Glass Engineering Department, University of Aveiro 4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) |
| Revista | Diamond and Related Materials |
| Volume | 18 |
| Número | 10 |
| Páginas | 1283-1288 |
| Nota Secundária | B2_ASTRONOMIA_/_FÍSICA A1_ENGENHARIAS_II A1_ENGENHARIAS_III B2_ENGENHARIAS_IV A1_MATERIAIS |
| Histórico (UTC) | 2009-12-10 13:18:25 :: simone -> administrator :: 2010-05-11 01:02:49 :: administrator -> simone :: 2011-05-02 04:05:15 :: simone -> administrator :: 2018-06-05 04:36:01 :: administrator -> marciana :: 2009 |
| 3. Conteúdo e estrutura | |
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
| Estágio do Conteúdo | concluido |
| Transferível | 1 |
| Tipo do Conteúdo | External Contribution |
| Palavras-Chave | Diamond HFCVD Activation energy Growth kinetics sp2 growth |
| Resumo | The influence of the substrate temperature on the formation of ultrananocrystalline diamond (UNCD) thin films, prepared by an argon-based hot filament chemical vapor deposition (HFCVD), is discussed in this work. The gas mixture used for diamond growth was 1 vol.% methane, 9 vol.% hydrogen and 90 vol.% argon at a total flow rate of 200 sccm and at a total pressure of 30 Torr. The substrate temperature range was from 550 to 850 °C at deposition time of 8 h. Mass growth rate was determined at different deposition temperatures. The activation energy for UNCD growth, determined from the Arrhenius plot, was lower (5.7 kcal/mol) than the values found for standard diamond deposition (around 11 kcal/mol). In this work, we suggest that the activation energy was lower because the growth of these films occurs at conditions that there is a high growth competition between diamond phase and sp2 phases. To support this hypothesis, systematic characterization studies based on Raman scattering spectroscopy, high-resolution X-ray diffractometry and high-resolution scanning electron microscopy were performed. |
| Área | FISMAT |
| Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Influence of substrate... |
| Conteúdo da Pasta doc | acessar |
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
| Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
| 4. Condições de acesso e uso | |
| Idioma | en |
| Arquivo Alvo | influence of substrade.pdf |
| Grupo de Usuários | administrator simone |
| Visibilidade | shown |
| Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft24 |
| Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
| 5. Fontes relacionadas | |
| Repositório Espelho | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02.53 |
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ESR3H2 |
| Divulgação | WEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX. |
| Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02 |
| 6. Notas | |
| Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup rightsholder schedulinginformation secondarydate session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype |
| 7. Controle da descrição | |
| e-Mail (login) | marciana |
| atualizar | |